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Athermal Azobenzene-Based Nanoimprint Lithography

Titelangaben

Probst, Christian ; Meichner, Christoph ; Kreger, Klaus ; Kador, Lothar ; Neuber, Christian ; Schmidt, Hans-Werner:
Athermal Azobenzene-Based Nanoimprint Lithography.
In: Advanced Materials. Bd. 28 (6 April 2016) Heft 13 . - S. 2624-2628.
ISSN 1521-4095
DOI: https://doi.org/10.1002/adma.201505552

Abstract

A novel nanoimprint lithography technique based on the photofluidization effect of azobenzene materials is presented. The tunable process allows for imprinting under ambient conditions without crosslinking reactions, so that shrinkage of the resist is avoided. Patterning of surfaces in the regime from micrometers down to 100 nm is demonstrated.

Weitere Angaben

Publikationsform: Artikel in einer Zeitschrift
Begutachteter Beitrag: Ja
Keywords: athermal photofluidization; azobenzene; nanopatterning; nanoimprint lithography; soft lithography
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Titel an der UBT entstanden: Ja
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Eingestellt am: 21 Feb 2017 09:23
Letzte Änderung: 21 Feb 2017 09:23
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/35688