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Photolabile 1-Aryl-3,3-dialkyl-triazene und Triazenpolymere für die Anwendung in der Laser-Mikrolithographie und Photoresisttechnik

Titelangaben

Stebani, Jürgen:
Photolabile 1-Aryl-3,3-dialkyl-triazene und Triazenpolymere für die Anwendung in der Laser-Mikrolithographie und Photoresisttechnik.
1993 . - 191 S.
( Dissertation, 1993 , Universität Bayreuth, Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften)

Weitere Angaben

Publikationsform: Dissertation
Keywords: Chromophor; Laserablation; Photoresist; Polymethylmethacrylate; Triazene
Institutionen der Universität: Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie
Fakultäten
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften
Titel an der UBT entstanden: Ja
Themengebiete aus DDC: 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
Eingestellt am: 22 Jan 2016 08:04
Letzte Änderung: 22 Jan 2016 08:04
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/27173