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Sander, D. ; Enders, Axel ; Kirschner, J.:
Stress evolution during the growth of ultrathin layers of iron and iron silicide on Si(111).
In: Applied Physics Letters.
Bd. 67
(1995)
Heft 13
.
- S. 1833-1835.
ISSN 1077-3118
DOI: https://doi.org/10.1063/1.115418
Weitere Angaben
| Publikationsform: | Artikel in einer Zeitschrift |
|---|---|
| Begutachteter Beitrag: | Ja |
| Institutionen der Universität: | Fakultäten > Fakultät für Mathematik, Physik und Informatik > Physikalisches Institut > Lehrstuhl Experimentalphysik XI - Funktionelle Nanostrukturen > Lehrstuhl Experimentalphysik XI - Funktionelle Nanostrukturen - Univ.-Prof. Dr. Axel Enders Fakultäten Fakultäten > Fakultät für Mathematik, Physik und Informatik Fakultäten > Fakultät für Mathematik, Physik und Informatik > Physikalisches Institut Fakultäten > Fakultät für Mathematik, Physik und Informatik > Physikalisches Institut > Lehrstuhl Experimentalphysik XI - Funktionelle Nanostrukturen |
| Titel an der UBT entstanden: | Nein |
| Themengebiete aus DDC: | 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 500 Naturwissenschaften 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 530 Physik 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie |
| Eingestellt am: | 06 Dec 2016 11:18 |
| Letzte Änderung: | 06 Dec 2016 11:18 |
| URI: | https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/35260 |