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Subwavelength Etched Colloidal Monolayers : a Model System for Tunable Antireflective Coatings

Titelangaben

Stelling, Christian ; Bernhardt, Christoph ; Retsch, Markus:
Subwavelength Etched Colloidal Monolayers : a Model System for Tunable Antireflective Coatings.
In: Macromolecular Chemistry and Physics. Bd. 216 (2015) Heft 16 . - S. 1682-1688.
ISSN 1521-3935
DOI: https://doi.org/10.1002/macp.201500167

Angaben zu Projekten

Projektfinanzierung: Andere

Weitere Angaben

Publikationsform: Artikel in einer Zeitschrift
Begutachteter Beitrag: Ja
Institutionen der Universität: Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie > Lehrstuhl Physikalische Chemie I > Lehrstuhl Physikalische Chemie I - Univ.-Prof. Dr. Markus Retsch
Fakultäten
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie > Lehrstuhl Physikalische Chemie I
Titel an der UBT entstanden: Ja
Themengebiete aus DDC: 500 Naturwissenschaften und Mathematik
Eingestellt am: 08 Nov 2019 08:09
Letzte Änderung: 13 Dec 2019 08:22
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/53113