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Physical Vapor Deposition of Molecular Glass Photoresists : A New Route to Chemically Amplified Patterning

Titelangaben

Pfeiffer, Frauke ; Felix, Nelson M. ; Neuber, Christian ; Ober, Christopher K. ; Schmidt, Hans-Werner:
Physical Vapor Deposition of Molecular Glass Photoresists : A New Route to Chemically Amplified Patterning.
In: Advanced Functional Materials. Bd. 17 (September 2007) Heft 14 . - S. 2336-2342.
ISSN 1616-301X
DOI: https://doi.org/10.1002/adfm.200600717

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Angaben zu Projekten

Projektfinanzierung: Deutsche Forschungsgemeinschaft

Abstract

A negative tone photoresist film, consisting of a molecular glass, a photoacid generator, and an acid labile crosslinker, was prepared by physical vapor deposition, a solvent-free process. Subsequent to deposition, the coevaporated monomers were exposed using 365 nm radiation, subjected to a post exposure bake step, and developed in aqueous base to produce sub-micron patterns. Combinatorial techniques were used to aid optimization of the photoresist by systematic variations in composition and exposure dose. Development factors such as concentration and time were also optimized.

Weitere Angaben

Publikationsform: Artikel in einer Zeitschrift
Begutachteter Beitrag: Ja
Institutionen der Universität: Fakultäten
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie > Lehrstuhl Makromolekulare Chemie I
Fakultäten > Fakultät für Biologie, Chemie und Geowissenschaften > Fachgruppe Chemie > Lehrstuhl Makromolekulare Chemie I > Lehrstuhl Makromolekulare Chemie I - Univ.-Prof. Dr. Hans-Werner Schmidt
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Forschungseinrichtungen > Forschungszentren > Bayreuther Zentrum für Kolloide und Grenzflächen - BZKG
Forschungseinrichtungen > Sonderforschungsbereiche, Forschergruppen
Forschungseinrichtungen > Sonderforschungsbereiche, Forschergruppen > SFB 481 Komplexe Makromolekül- und Hybridsysteme in inneren und äußeren Feldern
Titel an der UBT entstanden: Ja
Themengebiete aus DDC: 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
Eingestellt am: 29 Jun 2015 09:28
Letzte Änderung: 29 Jun 2015 09:28
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/1332