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Physical Vapor Deposition of Molecular Glass Photoresists : A New Route to Chemically Amplified Patterning

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Pfeiffer, Frauke ; Felix, Nelson M. ; Neuber, Christian ; Ober, Christopher K. ; Schmidt, Hans-Werner:
Physical Vapor Deposition of Molecular Glass Photoresists : A New Route to Chemically Amplified Patterning.
In: Advanced Functional Materials. Bd. 17 (2007) Heft 14 . - S. 2336-2342.
ISSN 1616-3028
DOI: https://doi.org/10.1002/adfm.200600717

Angaben zu Projekten

Projektfinanzierung: Deutsche Forschungsgemeinschaft

Abstract

A negative tone photoresist film, consisting of a molecular glass, a photoacid generator, and an acid labile crosslinker, was prepared by physical vapor deposition, a solvent-free process. Subsequent to deposition, the coevaporated monomers were exposed using 365 nm radiation, subjected to a post exposure bake step, and developed in aqueous base to produce sub-micron patterns. Combinatorial techniques were used to aid optimization of the photoresist by systematic variations in composition and exposure dose. Development factors such as concentration and time were also optimized.

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Publikationsform: Artikel in einer Zeitschrift
Begutachteter Beitrag: Ja
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Titel an der UBT entstanden: Ja
Themengebiete aus DDC: 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
Eingestellt am: 29 Jun 2015 09:28
Letzte Änderung: 24 Okt 2023 13:48
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/1332