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All-dry photoresist systems : Physical vapor depositions of molecular glasses

Titelangaben

Pfeiffer, Frauke ; Neuber, Christian ; Schmidt, Hans-Werner:
All-dry photoresist systems : Physical vapor depositions of molecular glasses.
In: Advances in Resist Materials and Processing Technology XXV : 25 - 27 February 2008, San Jose, California, USA. - Bellingham, Wash. : SPIE , 2008 . - 69231F/1-69231F/8 . - (Proceedings of SPIE ; 6923 )
ISBN 978-0-8194-7108-6
DOI: https://doi.org/10.1117/12.771101

Angaben zu Projekten

Projektfinanzierung: Deutsche Forschungsgemeinschaft

Abstract

The aim of the paper is the development of an all-dry photolithographic process in which the film preparation step as well as the development step is performed without the use of solvent. To implement an all-dry photoresist system we focused on coumarin derivatives, as this class can be photodimerized in the solid state and features sufficient high thermal stability. The dimerized product exhibits sufficiently different physical properties. The monomer can be evaporated at elevated temperatures whereas the dimerized product remains non-volatile under these conditions. With a tailored glass forming coumarin derivative we demonstrated the capability to develop clear patterns. A combinatorial approach, i.e. producing a compositional library in combination with the variation of exposure dose was utilized to efficiently optimize the all-dry photoresist system.

Weitere Angaben

Publikationsform: Aufsatz in einem Buch
Begutachteter Beitrag: Ja
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Titel an der UBT entstanden: Ja
Themengebiete aus DDC: 500 Naturwissenschaften und Mathematik > 540 Chemie
Eingestellt am: 26 Jun 2015 08:32
Letzte Änderung: 29 Mai 2024 11:22
URI: https://eref.uni-bayreuth.de/id/eprint/1305