Verfahren zur Fertigung einer Schicht mit Perowskitischem Material und Vorrichtung mit einer solchen Schicht

Titelangaben

Fleischer, Maximilian ; Gujar, Tanaji P. ; Hanft, Dominik ; Moos, Ralf ; Panzer, Fabian ; Thelakkat, Mukundan:
Verfahren zur Fertigung einer Schicht mit Perowskitischem Material und Vorrichtung mit einer solchen Schicht.
WO002017140855A1 (2017)

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Abstract

Das Verfahren dient zur Fertigung einer elektrooptischen und/oder optoelektronischen Schicht. Bei dem Verfahren wird die Schicht mit perowskitischem Material der Zusammensetzung ABX3 mittels Kaltgasspritzens zumindest eines das perowskitische Material aufweisenden Ausgangsmaterials gebildet. X ist dabei mit mindestens einem Halogen oder einer Mischung mehrerer Halogene gebildet. Bei dem Verfahren zur Herstellung einer elektrooptischen oder optoelektronischen Vorrichtung mit mindestens einer elektrooptischen oder optoelektronischen Schicht wird die zumindest eine elektrooptische oder optoelektronische Schicht mit einem perowskitischen Material mittels des zuvor genannten Verfahrens gebildet. Die Vorrichtung ist insbesondere eine elektrooptische oder optoelektronische Vorrichtung, idealerweise ein Energiewandler und/oder eine Solarzelle oder eine Leuchtdiode oder ein Röntgendetektor. Die Vorrichtung weist eine solche elektrooptische Schicht auf.

Abstract in weiterer Sprache

The method is for producing an electro-optical and/or optoelectronic layer. In the method, the layer is formed with perovskite material of the composition ABX3 by means of cold gas spraying at least a starting material having the perovskite material. X is also formed with at least one halogen or a mixture of multiple halogens. In the method for producing an electro-optical or optoelectronic device with at least one electro-optical or optoelectronic layer, the at least one electro-optical or optoelectronic layer is formed with a perovskite material by means of said method. The device is in particular an electro-optical or optoelectronic device, ideally an energy converter and/or a solar cell or a light diode or an X-ray detector. The device has an electro-optical layer of this type.