Verfahren zur Fertigung einer Schicht mit perowskitischem Material und Vorrichtung mit einer solchen Schicht

Titelangaben

Fleischer, Maximilian ; Gujar, Tanaji P. ; Hanft, Dominik ; Moos, Ralf ; Panzer, Fabian ; Thelakkat, Mukundan:
Verfahren zur Fertigung einer Schicht mit perowskitischem Material und Vorrichtung mit einer solchen Schicht.
DE102016202607 (2016)

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Abstract

Das Verfahren dient zur Fertigung einer elektrooptischen und/oder optoelektronischen Schicht. Bei dem Verfahren wird die Schicht mit perowskitischem Material der Zusammensetzung ABX3 mittels Kaltgasspritzens zumindest eines das perowskitische Material aufweisenden Ausgangsmaterials gebildet. X ist dabei mit mindestens einem Halogen oder einer Mischung mehrerer Halogene gebildet. Bei dem Verfahren zur Herstellung einer elektrooptischen oder optoelektronischen Vorrichtung mit mindestens einer elektrooptischen oder optoelektronischen Schicht wird die zumindest eine elektrooptische oder optoelektronische Schicht mit einem perowskitischen Material mittels des zuvor genannten Verfahrens gebildet. Die Vorrichtung ist insbesondere eine elektrooptische oder optoelektronische Vorrichtung, idealerweise ein Energiewandler und/oder eine Solarzelle oder eine Leuchtdiode oder ein Röntgendetektor. Die Vorrichtung weist eine solche elektrooptische Schicht auf.